研究方向： 

1、4D-STEM技术与应用

建立基于4D STEM的电子叠层衍射（electron ptychography）的实验流程、参数及数据分析算法；开展叠层衍射重构的低电子束剂量、高空间分辨率成像与算法研究。

2、三维原子断层成像技术与应用（3D AET）

构建基于三维原子成像技术和算法的实验平台，发展实验的数据采集、存储、算法的新方法。结合像差校正透射电镜和聚焦离子束系统开展适用于块体样品的原子级电子断层成像实验技术与算法研究；基于原子级电子断层成像技术开展界面、新型极化拓扑畴等复杂结构的原子尺度三维结构与功能特性解析研究。

3、叠层衍射式电子断层成像 (pAET) 技术与应用

发展基于叠层衍射与三维断层成像相结合的显微技术新方法，推动铁电拓扑晶体学向高精度、全元素、三维度发展。 

4、新型铁电拓扑结构的外场响应与器件构建

探索极性拓扑结构在外场作用下的响应行为，探索极性拓扑结构在存储、通信、传感以及集成光子学中的应用。

5、近使役条件下高温结构材料的构效关系研究

利用原位扫描电子显微镜和透射电子显微镜探索高温结构材料在近使役条件下的构效关系，解析微结构演变规律及失效机制，为高性能高温结构材料的研发提供显微学基础。

6、其他基于先进电子显微学、材料电子显微学、材料结构性能关系研究的优秀青年学者

1、具有材料学、材料物理与化学、电子光学或应用物理等相关专业的博士学位； 

2、在国际学术刊物上发表过具有重要影响力的学术论文；

3、乐观向上、责任心强、具有团队合作意识； 

4、具有较强的独立工作能力以及英语读说写能力。